SERIS的科學家們拿著采用其新型DWS工藝制造的電池和晶片。
新加坡國立大學
這一濕化學法以納米特征尺度刻蝕晶片表面，從而增加了光線反射表面的次數(shù)及被晶片材料吸收的機會。該工藝使用專利性化學品，具有低成本性和可擴展性，且極易被集成入電池生產(chǎn)線。
SERIS認為，相較于“黑硅”工藝，其新工藝能給生產(chǎn)廠家提供更多的益處。表示他們的技術(shù)“更簡單、更價廉，且無金屬，可以達到20%以上的電池效率”，有潛力成為被多晶硅太陽能電池制造商廣泛使用的主流織構(gòu)技術(shù)。
據(jù)SERIS表示，這一工藝已獲得了幾家一線廠商的認可。該機構(gòu)準備與這些廠家密切合作，將其擴大到大型生產(chǎn)線。
