黑硅技術(shù)——隨風(fēng)潛入夜
光伏產(chǎn)業(yè)網(wǎng)訊
發(fā)布日期:2018-04-14
核心提示:
近年來,單晶硅片受益于金剛線切割工藝的推廣,單晶制絨技術(shù)相對成熟,成本大幅下降。隨著單多晶之爭越演越烈,為持續(xù)以成本優(yōu)勢穩(wěn)居市場主流地位,多晶硅片轉(zhuǎn)換為金剛線切割來更進(jìn)一步降低成本已到了非做不可的時機(jī)。
幾年前阿特斯?jié)穹ê诠瑾?dú)領(lǐng)風(fēng)騷的時候,或許誰都想不到黑硅會出現(xiàn)如今的“榮景”。
近年來,單晶硅片受益于金剛線切割工藝的推廣,單晶制絨技術(shù)相對成熟,成本大幅下降。隨著單多晶之爭越演越烈,為持續(xù)以成本優(yōu)勢穩(wěn)居市場主流地位,多晶硅片轉(zhuǎn)換為金剛線切割來更進(jìn)一步降低成本已到了非做不可的時機(jī),但金剛線切割多晶硅片,采用常規(guī)酸制絨無法實(shí)現(xiàn)良好的表面織構(gòu),甚至無法形成絨面。黑硅技術(shù)可以完美解決多晶制絨問題,既能提升電池效率又能降低電池成本,是多晶電池繼續(xù)進(jìn)步的必由之路;黑硅技術(shù)的成熟又促使采用金剛線切多晶的比例迅速提升,以至于甚至有人說,金剛線和黑硅是孿生兄弟。
到目前為止制絨添加劑技術(shù)、干法黑硅技術(shù)(反應(yīng)離子刻蝕法ReactiveIonEtching,RIE)和濕法黑硅技術(shù)(金屬催化化學(xué)腐蝕法metalCatalyzedChemicalEtching,MCCE)等都可以解決金剛線切割的多晶硅片反射率高,制絨困難的問題。多晶黑硅技術(shù)的熱火再起,使得單、多晶的產(chǎn)品路線之爭愈發(fā)激烈:“究竟誰才是明日之王?”
黑硅對于多晶來說,是一場救贖。但這究竟是顛覆性的變革還是延續(xù)生命活力的權(quán)宜之計(jì)?
西方先試
1997年美國哈佛大學(xué)的Eric.Mazur等人用飛秒激光脈沖在SF6和Cl2氣體環(huán)境下反復(fù)照射硅片表面時,產(chǎn)生一種圓錐形的尖峰狀陣列結(jié)構(gòu)。當(dāng)用肉眼觀察時,具有這種結(jié)構(gòu)的硅片呈現(xiàn)黑色,故叫“黑硅”。
2004年,日本京瓷公司引入了干法黑硅RIE多晶制絨技術(shù)。在2008年,以韓國公司為代表的設(shè)備廠家開始在中國推廣干法黑硅RIE技術(shù)。
濕法黑硅方面,早在2006年,德國的Stutzmann小組即提出了金屬催化化學(xué)腐蝕的概念并在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行了初步的研究;直到2009年,美國國家可再生能源實(shí)驗(yàn)室(NREL)的Branz博士提出了全液相黑硅制備方法,將濕法黑硅技術(shù)朝產(chǎn)業(yè)化方向又推進(jìn)了一步。但是,他們一直未能解決好黑硅表面鈍化難題,使得濕法黑硅技術(shù)一直停留在實(shí)驗(yàn)室階段。
東方“神力”
近兩年,基于硅片廠家對金剛線切片技術(shù)導(dǎo)入的預(yù)期以及電池、組件技術(shù)的快速發(fā)展,干法黑硅RIE技術(shù)又逐漸進(jìn)入行業(yè)視野。干法黑硅目前主要在部分一線電池廠家實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),如晶科、協(xié)鑫集成、中節(jié)能等,仍有繼續(xù)發(fā)展的市場空間。“干法黑硅技術(shù)工藝穩(wěn)定成熟,絨面結(jié)構(gòu)均勻,效率提升最高,但需要新增成本較高的設(shè)備和工序。”業(yè)內(nèi)專家介紹。
2016年5月,晶科能源表示,其采用PERC和黑硅技術(shù)的高效多晶電池已進(jìn)入量產(chǎn)階段,未來將量產(chǎn)效率提升至20.5%以上。2016年11月,中節(jié)能太陽能鎮(zhèn)江公司宣布,其采用PERC+RIE黑硅技術(shù)的高效多晶電池實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),平均轉(zhuǎn)換效率突破20%大關(guān),多晶組件功率超過285W。2017年4月,比太科技發(fā)布第四代RIE干法黑硅量產(chǎn)設(shè)備Tysol-4000。據(jù)悉,比太科技干法黑硅設(shè)備出貨量已超過1GW。2017年8月,協(xié)鑫集成自主研發(fā)的干法黑硅多晶PERC電池平均量產(chǎn)效率超過20.3%,最高效率達(dá)到20.8%。
濕法黑硅技術(shù)新增成本支出相對較小,可實(shí)現(xiàn)0.3-0.5%的效率提升。但該工藝采用槽式技術(shù),與現(xiàn)有鏈?zhǔn)郊夹g(shù)兼容性差,而且需要面臨含銀廢酸的處理和地方政府環(huán)保管控問題。濕法黑硅技術(shù)的代表企業(yè)有阿特斯、保利協(xié)鑫、無錫尚德、比亞迪、蘇美達(dá)等。據(jù)統(tǒng)計(jì),2017年底國內(nèi)濕法黑硅設(shè)備已經(jīng)超過100臺,產(chǎn)能超過10吉瓦。
阿特斯早在2009年開始濕法黑硅技術(shù)項(xiàng)目調(diào)研立項(xiàng),2014年成功將該技術(shù)推廣到生產(chǎn)線,在世界上首次實(shí)現(xiàn)濕法黑硅技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化。目前,阿特斯量產(chǎn)黑硅電池平均效率超過19%,較常規(guī)多晶電池效率提升0.45%,黑硅組件輸出功率提升4W。2017年底,阿特斯將具備4GW濕法黑硅產(chǎn)能。
2017年,蘇美達(dá)輝倫自主《一種多晶硅表面倒金字塔結(jié)構(gòu)及其制備方法》獲得了發(fā)明專利。
2017年2月,協(xié)鑫集成多晶濕法黑硅PERC電池開始量產(chǎn),濕法黑硅PERC電池平均效率已達(dá)到20%,單片最高效率達(dá)到20.5%。2017年將有1.2GW黑硅電池全面投產(chǎn)。
2017年3月,中節(jié)能太陽能與德國RCT光伏科技公司就濕法黑硅技術(shù)簽署合作開發(fā)協(xié)議。2017年6月開始無錫尚德調(diào)研并確定濕法黑硅技術(shù)方案,12月,無錫尚德宣布其自主研發(fā)的濕法黑硅電池成功量產(chǎn),在提升電池轉(zhuǎn)換效率及組件功率方面均取得了突破性進(jìn)展。
硅片企業(yè)為了加速推進(jìn)金剛線切多晶的推廣應(yīng)用,也積極布局并導(dǎo)入黑硅技術(shù)。保利協(xié)鑫于2016年11月發(fā)布了TS系列濕法黑硅片。2017,保利協(xié)鑫重磅發(fā)布TS+系列第二代黑硅片,TS+黑硅片采用保利協(xié)鑫最新一代濕法黑硅技術(shù),其效率更高、成本更低,更兼容高效多晶PERC技術(shù)。經(jīng)驗(yàn)證,TS+黑硅在上一代黑硅的基礎(chǔ)上,電池效率增益將再提升0.05-0.1個百分點(diǎn),總體提升達(dá)0.3至0.4個百分點(diǎn)。
設(shè)備企業(yè)寶馨科技10月公告稱,公司于近日成功研發(fā)“MCCE黑硅制絨設(shè)備”,設(shè)備主要用于金剛線切割出來的多晶硅片的制絨,能生產(chǎn)出具有納米級黑硅絨面的硅片。目前已在協(xié)鑫集團(tuán)得到成功應(yīng)用。江蘇微導(dǎo)納米裝備科技有限公司推出第2代RIE設(shè)備——WR5400。
三劍合璧
硅片端降本,金剛線切多晶應(yīng)該是最有效途徑之一。黑硅是隨著金剛線切硅片而重新煥發(fā)生機(jī)的“老技術(shù)”,正是因?yàn)楹诠杓夹g(shù)的成熟給了金剛線切多晶掀起熱浪,席卷全國的底氣。另外,由于“背鈍化”和“黑硅陷光”又可以“完美”結(jié)合,優(yōu)越的光吸收帶來電流增益,良好的鈍化實(shí)現(xiàn)開壓提升,使得多晶黑硅疊加PERC技術(shù)后可得到額外收益,效率比普通多晶PERC高出0.4%左右,實(shí)現(xiàn)了“1+1>2”的效果,可以說,多晶金剛線切+黑硅+PERC“三劍合璧”效果更強(qiáng)。
保利協(xié)鑫金善明在接受采訪時表示,“切片環(huán)節(jié)主要解決的是降本問題,而配套的黑硅技術(shù)則在降本、提效方面都有提升空間。黑硅制絨之前,普及金剛線切割的多晶硅片已經(jīng)降本0.5-0.8元/片,而且,黑硅制絨后的多晶硅片可以直接上電池線,替代了傳統(tǒng)酸制絨環(huán)節(jié)。濕法黑硅技術(shù)可以融合其他硅片及電池產(chǎn)業(yè)化技術(shù),從根本上提升多晶電池的轉(zhuǎn)換效率,并降低光伏組件成本。黑硅技術(shù)能夠與高效PERC技術(shù)高度匹配,黑硅疊加PERC技術(shù)預(yù)計(jì)可以提效1.2-1.5%,實(shí)現(xiàn)“1+1>2”的效果。阿特斯王栩生也認(rèn)為,黑硅技術(shù)能夠與高效PERC技術(shù)高度匹配,經(jīng)驗(yàn)證,黑硅+PERC可以提效1.2%-1.5%,實(shí)現(xiàn)“1+1>2”的效果。
上海交通大學(xué)莊宇峰博士說,現(xiàn)在濕法黑硅技術(shù)已經(jīng)完全成熟,而且可在不同晶面上實(shí)現(xiàn)同樣的微、納米絨面,消除晶界,解決電池片的色差問題,基本實(shí)現(xiàn)外觀單晶化,而且結(jié)合PERC工藝,電池性能進(jìn)一步提升。蘇州大學(xué)教授蘇曉東也表示,常規(guī)絨面反射率24%,濕法黑硅絨面反射率16-18%,以20%內(nèi)光電效率計(jì)算,未來提升1.2-1.5%可能性很大。
在成本方面,與砂線切+普通電池工藝的單位成本相比,金剛線切多晶+濕法黑硅+PERC的電池制造成本僅為其92.7%,而金剛線切多晶+添加劑制絨+PERC則為其93.5%,而性價比得到了提升。
從產(chǎn)線效果來看,“金剛線+黑硅+PERC”的強(qiáng)力組合拳力促更多的高效多晶產(chǎn)品邁入“光伏領(lǐng)跑者計(jì)劃”,產(chǎn)品效率完全可以滿足“超級領(lǐng)跑者”標(biāo)準(zhǔn)。
一場革命
一直以來多晶在市場上都占有著絕對優(yōu)勢,其原因歸功于多晶硅片的高性價比,資料顯示,高效多晶技術(shù)不斷優(yōu)化晶體結(jié)構(gòu),目前多晶在晶體缺陷方面與單晶的效率差異大幅降低到0.2%左右,就客戶端表現(xiàn)情況來看,單晶與多晶之間并無明顯差別。加之鑄錠產(chǎn)能提升和結(jié)構(gòu)線等技術(shù)對多晶成本的進(jìn)一步降低,使得多晶能夠保持市場優(yōu)勢。但近兩年來單晶技術(shù)的發(fā)展使得單晶成本有明顯下降,給多晶造成一定壓力。多晶亟待進(jìn)一步的技術(shù)升級,才能繼續(xù)以性價比優(yōu)勢主導(dǎo)光伏市場。
對于多晶來說,黑硅的蓬勃再現(xiàn)無疑是一場救贖,更是一場革命。
“前幾年,高效多晶技術(shù)的主攻方向是圍繞晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行體材料提效,近一年,則是以黑硅技術(shù)為代表的硅片表面提效。”面對多晶的發(fā)展趨勢,業(yè)內(nèi)人士這樣總結(jié)。黑硅技術(shù)的成熟,推動金剛線的迅速擴(kuò)張,加上背鈍化技術(shù)的匹配,無疑給多晶注入一針強(qiáng)心劑。
多位業(yè)內(nèi)專家都表示,未來五到十年內(nèi),在包括黑硅技術(shù)的助力下,多晶通過技術(shù)升級,還將不斷提升轉(zhuǎn)換效率,降低發(fā)電成本,以高性價比和技術(shù)優(yōu)勢,將繼續(xù)占領(lǐng)市場主導(dǎo)地位。